该设备主要应用于半导体行业、TFT-LCD行业以及太阳能光伏行业中的蚀刻与CVD制程。主要处理气体包括蚀刻与化学气相沉积制程中常见的有毒腐蚀气体，包括SiH4、SiH2CL2 、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等。在业界有应用广泛，运行与维护方便且成本低。

根据废气的不同性质，尾气处理方式：

 
□湿法处理（Wet Scrubber）:水喷淋吸收溶解，如NH3、CL2、HCL、BCL3、HBr等处理

□热湿处理（Thermal & Wet Scrubber）：燃烧或电加热及湿法喷淋处理，能够完全彻底处理废气，如SiH4、Geh4、TEOS、DCS、PH3 、CF4、H2、WF6等处理